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平成30年度「技術者交流会」開催案内(〆切3月20日)

2019年2月8日

大分県LSIクラスター形成推進会議
 会員の皆様へ                           
                           グローバルネットワーク部会
                               部会長 安部 征吾

             ~平成30年度技術者交流会のご案内~

 大分県LSIクラスター形成推進会議では、会員企業の技術者の皆様をはじめ各層の方
々を対象に技術者交流会を開催いたします。交流会にて人的ネットワークを構築し、ビジ
ネスのヒント等にお役立ていただければと存じます。講演会では、「2018-19年の大型製
品に見る半導体のトレンドと巨大変化を読む」をタイトルと題して、長期間半導体開発に
携わってこられ現在半導体アナリストとして技術紙等でも多数執筆活動中など多方面で、
ご活躍中の (株)テカナリエ社CEO清水洋治様 にご講演頂きます。
理論ではなく分解情報を基にしたエビデンスの内容であり会員の皆様には必ずご興味ある
ものと存じます。
 各企業の技術者を主な対象としておりますが、リーダー層を含めご興味ある方はどなた
でも是非ご参加ください。詳細は、添付のご案内をご覧ください。

【日時】 平成31年3月27日(水)15:30~19:00
【場所】 大分センチュリーホテル (大分市府内町1-4-28 TEL:097-536-2777)
【プログラム】
 〇 講演会  15:30~17:00(2階 桜の間)
   概要   2018年の大型製品の分解解析(エビデンス)を中心に
        ① Apple製品/Google製品: チップ開封情報を交え
        ② NVIDIA、Intelなどのコンピューティング: AI情報も踏まえチッ
          プ開封情報含む、テスラ社のオートパイロット情報なども含む
        ③ 中国の大型製品: HUAWEI、DJIなど
        ④ 日本の課題: 日本製品の分解、チップ情報を解説し問題点や課題
          を指摘
   講師略歴 ~2005年まで日立半導体でCPUを中心に開発、内1992-2005年米シリコ
        ンバレーで次世代製品の開発、マーケット。
        ~2015年までルネサスエレクトロニクス車載部門の主管技師長、製品開
        発プロジェクトをメインとして活動
        2016~現職 テカナリエCEO
 〇 交流会   17:15~19:00(3階 桐の間)
【参加対象者】 大分県LSIクラスター形成推進会議会員企業の方々
        (ぜひ社内へ回報くださるようお願いいたします)
【参加費】   講演会は無料ですが交流会は参加費2千円/人を賜ります
【申込〆切】  3月20日(水)
【参加申込】  添付別紙にご記入の上Fax又はメール添付にて事務局までお送りください
【お問い合わせ】大分県LSIクラスター形成推進会議事務局(担当:平沖、藤原、佐藤)
        〒870-1117大分市高江西1-4361-10(大分県産業科学技術センター内)
        Email: oita-lsi@columbus.or.jp   Tel/Fax: 097-596-7179

 2019・3・27技術者交流会申込書 2019・3・27技術者交流会開催案内文

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