2025年6月25日
ＬＳＩ第１９号
令和７年６月５日
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様へ
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会長 川越 洋規
時下、ますますご清祥のこととお喜び申し上げます。
平素より、大分県における半導体産業の振興に多大なるご理解とご支援を賜り、厚くお礼申し上げます。
このたび、産学官のネットワークをさらに広げ、半導体関連産業の更なる発展に資することを目的として、
令和７年度の総会／フォーラムを下記のとおり開催することと致しました。
総会では、当会議のこれまでの活動報告と今後の方針についてご説明いたします。
フォーラムでは、キオクシア株式会社 取締役 副社長執行役員 渡辺 友治 氏を基調講演にお迎えし、同社の
先進的な取組みや業界展望についてお話しいただく予定です。加えて、昨年度に引き続き、インフォーマ
インテリジェンス合同会社 シニアコンサルティングディレクター 南川 明 氏による特別講演も予定しており、
最新の半導体市場動向について貴重なご知見を共有頂けるものと存じます。
本総会／フォーラムでは、当推進会議の会員はもとより会員以外の企業の参加も募っており、終了後は
交流会(参加料：4,000円)も予定しておりますので、情報交換、ネットワーク拡大の好機として、是非とも積極的に
ご参加くださいますようお願い申し上げます。
■申込方法：下記ＵＲＬまたは添付ファイルの二次元コードからアクセスの上、６月３０日(月)までに登録をお願い致します。
令和７年度大分県LSIクラスター形成推進会議 総会／フォーラム 参加申込
https://ttzk.graffer.jp/pref-oita/smart-apply/apply-procedure-alias/R7LSI-sanka
記
１．開催日時 令和７年７月１４日（月）14:00～19:30
２．開催場所 レンブラントホテル大分 ２階 二豊の間
〒870-0816大分市田室町9-20 (TEL：097-545-1040)
３．開催内容 別添プログラムのとおり
４．主催 大分県、大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
５．連絡先 大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議事務局（担当：矢野／楢原）
〒870-1117 大分市高江西1-4361-10 TEL/FAX:097-596-7179
E-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
