会員募集中

【日 時】令和2年8月6日(木) 10:00~17:00
【場 所】大分県産業科学技術センター 多目的ホール
【テーマ】 品質完璧マスターシリーズ 未然防止編
      “トラブルの直接原因を究明 トヨタが実践する「FTA」”
【講 師】皆川 一二 氏
      元デンソー、ワールドテック 講師
      愛知工業大学 工学部 機械学科 非常勤講師
      小松開発工業顧問
【参加者】10社37名

 
        皆川講師
  
        午前講義                午後演習

大分県LSIクラスター形成推進会議
  会員の皆様へ

 事務局から販路開拓補助金についてお知らせ致します。
 当会では、コロナ禍においても会員企業にとって新規市場開拓を目指す会員企業が、
コロナ対策をとって活動する場合の支援を行います。
 コロナ対策のためのオンライン対応化を主な内容とし新規事業などを売り込む場合に
ご利用頂けます。
 なお、採択は審査委員による書類審査により上位5社程度となる見込です。
制度についての説明会をご希望の方はメール返信・電話等でご連絡願います。
(開催日程は後日連絡致します)

 ③販路開拓補助金(上限100万円)
 
 締切り:8月28日 採択通知:9月11日(=事業開始)予定

 詳しくは下記添付資料をご覧ください。
 ご質問等は、事務局担当: 平沖、岡田まで
電話・FAX 097-596-7179 メール oita-lsi@columbus.or.jp

 販路開拓補助金交付要綱 (R2) R2販路開拓補助(コロナ対策)応募要領

大分県LSIクラスター形成推進会議 
  会員の皆様
                          グローバルマーケテイング部会
                               部会長 石井源太
   「日中ビジネスセミナー」オンライン参加者募集のお知らせ(無料)
   テーマ: 米中貿易戦争とポストコロナ「どうするこれからの中国ビジネス」

 中国文化・社会・ビジネスについて国内第一人者の講師による中国ビジネスセミナーを
オンラインで開催致します。
 中国とのビジネスを検討する場合に知っておくべき知識をオンラインセミナーで習得で
きます。また、中国とのビジネスを現在予定していない場合でも中国人との付き合い方、
中国文化など一般教養としても非常に面白い内容となっております。多くの会員の方のご
参加をお願いします。
 ネット接続できる環境ならばどこからでも参加できますが、希望者は大分県産業科学技
術センターのホールにて集団での受講も可能です。聴講だけであればカメラ・マイクも不
要ですが、会議方式で開催し質問も受付けますのでカメラ・マイク付での参加を推奨致します。
 ※詳細は下記ご案内を参照ください。

 開催日時: 9月9日(水) 内容、時間は変更の可能性があります。
      13:30-14:30 日中異文化理解
      14:30-14:40 休憩
      14:40-16:30 中国向けビジネスの進め方
 会場:①オンラインでの開催ですので各自受講できる環境でご参加下さい。
    ②大分県産業科学技術センター多目的ホールで参加の場合は機材準備は不要です。
    (事務局が用意します)
 使用ツール: ZOOM (参加方法は申込者へ別途ご案内します)
セミナー参加ご希望の方は、下記申込書によりFax又はEメールでお申込みください。
参加申込書提出期限 8月28日(金) (定員になり次第締切)
申込/お問合せ: 大分県LSIクラスター形成推進会議事務局(担当平沖・岡田)
電話/Fax:  097-596-7179  E メールoita-lsi@columbus.or.jp
 中国ビジネスセミナーオンライン開催のご案内 
 中国ビジネスセミナーオンライン申込書

 事務局からお知らせいたします。(研究開発に対する補助金のご案内です)
令和2年度大分県LSIクラスター形成推進会議グローバルニッチトップ推進事業は4月
2日から公募を開始しておりますが今年度は昨今のビジネス環境を鑑み特例として補助率を
変更し募集致します。詳細は以下のとおりです。
*****************************************

大分県LSIクラスター形成推進会議
   県内会員企業各位
                         大分県LSIクラスター形成推進会議
                    グローバルイノベーション部会長 野尻裕明

   令和2年度大分県LSIクラスターグローバルニッチトップ推進事業公募案内
        (研究開発等に対する補助金のご案内)

 平素よりLSIクラスターへのご協力ありがとうございます。
 さて、当会議では、令和2年度の大分県LSIクラスターグローバルニッチトップ推進事業
の公募案内をさせていただきます。
 応募につきましては添付「グローバルニッチトップ創出事業費補助金応募要領(R2特例)」
を参照され、条件等をご確認ください。申請につきましては添付「大分県LSIクラスターグ
ローバルニッチトップ推進事業実施要領(R2特例)」の中のグローバルニッチトップ推進
事業申請書にご記入の上、郵送または直接ご持参ください。
■補助概要
 2つのメニューから選択できます。
・ニューマーケット進出事業 補助上限200万円
 補助率2/3→ 9/10 3件程度
 (高い技術力をいかした、新分野への事業展開への補助)
・ニッチトップ創出事業 補助上限400万円 
 補助率1/2→ 4/5 1件程度
 (自社の強みを更に高めるための製品競争力強化への補助)
<補足>
1.県内に事業所をもつ会員企業単独で申請可能です。
  (特にWGを構成する必要がありません)
2.中間報告は行いません。
  それぞれの事業での審査の採点配分も記載されていますので内容を確認の上、申請書を
  作成ください。
■募集期間:令和2年4月3日(金)~5月15日(金)(必着)
*注意点
(1)ニューマーケット進出事業とニッチトップ創出事業が募集・審査対象です。
(2)補助対象経費は消費税抜きとします。
(3)原則精算払いとしますが、一部を概算払いにより支払うこともできます。

【問い合わせ等】
  大分県LSIクラスター形成推進会議
  事務局 足立、佐藤、平沖
  TEL/FAX: 097-596-7179
 グローバルニッチトップ創出事業費補助金応募要領(R2特例)
 大分県LSIクラスターグローバルニッチトップ推進事業実施要領(R2特例)
 R2大分県LSIクラスターグローバルニッチトップ推進事業実施要領(記載例)

【日 時】令和2年2月4日(火) 10:00~17:00
【場 所】大分県産業科学技術センター 多目的ホール
【テーマ】「40%コスト削減!革新的低コストプロジェクトの進め方」
【講 師】イントランスHRM ソリューションズ代表取締役社長 竹村 孝宏氏
【参加者】17社39名

  
        竹村講師                 実習

大分県LSIクラスター形成推進会議
会員企業の皆様へ
グローバルネットワーク部会
部会長 安部 征吾

「LSIクラスタートップセミナー」及び
「SIIQ会員交流会」開催案内

大分県LSIクラスター形成推進会議では、会員企業経営者の皆様を対象にしました「トップセミナー」を下記のとおり開催します。
今回は、当推進会議と連携を図っている九州半導体・エレクトロニクスイノベーション協議会(略称:SIIQ)の会長であり、ソニーセミコンダクタ株式会社の代表取締役社長 上田康弘様にご講演をお願いします。本講演は当部会の事業計画の一つである学との連携でもあり、大分大学の学生の方々に向けた講演内容となっております。
また、引き続いて開催しますSIIQ主催の会員交流会もあわせてご案内致します(クラスター共催)。クラスター会員企業の経営者の皆様等におかれましては、是非この機会に上田様とのご交誼を深めていただくとともに、九州内の企業間交流の機会としていただければと存じます。

ご参加を希望される場合は、下記方法にてお願い申し上げます。
今回は申込方法が変更されていますので、お間違えの無きように願います。

■申込方法
下記URLより、参加者情報、
半導体セミナー(LSIクラスタートップセミナー)、
SIIQ交流会①、②、③への参加の有無、
及び車乗入れ時の車ナンバー、見学服サイズ等を入力ください。
<入力URL>
http://www.siiq.jp/form/form.cgi?pass=jgLvAYgaWR

■申込締切:2016年 2月 15日(月)

■開催要領

【半導体セミナー(LSIクラスタートップセミナー)】
・日時:2016年 3月 4日(金)11:00~12:30
・場所:大分大学 旦野原(だんのはる)キャンパス
教養教育棟 第二大講義室
(住所:大分県大分市旦野原700番地)
http://www.oita-u.ac.jp/category/dannoharu_map.html
※この会場への移動、及びこのあとのSIIQ会員交流会(臼杵)、夕食交流会(大分市)への移動は個人単位での移動となります。

・内容:ソニーセミコンダクタ(株)上田社長講演

講演タイトル
「キミに伝えておきたいこと、がある
IoTとIoE、無限にひろがるチャンスと私たちが創る世界」

・参加費 :無料

【SIIQ会員交流会】

①企業見学会
・日時:2016年 3月 4日(金)14:30~16:30
・場所:(株)ジェイデバイス <臼杵地区>
※現地集合
(大分県臼杵市大字福良字竹ヶ下1913番2)
・内容:(株)ジェイデバイス様紹介、工場見学
(約120分)
・定員:50名 ※先着順、定員になり次第締切。
・参加費 :無料

②夕食交流会
・日時:2016年 3月 4日(金)18:30~20:30
・場所:花邨(はなむら)
(大分市中央町4-2-5 TEL 097-538-5550)
・会費:5,000 円/人 ※見学会受付時に徴収

※見学会場(臼杵市)→夕食会場(大分市)移動は
各自でのご移動となります。
※当日ご宿泊される方は、宿泊場所につきましては
各自でのご予約をお願いいたします。

③ゴルフ交流会
・日時:2016年 3月 5日(土)8:30スタート~
※OUT/IN同時スタート
・場所:大分東急ゴルフクラブ
(大分県大分市広内227-1 TEL=097-529-2311)
http://www.tokyu-golf-resort.com/oita/access/

・定員:32名 ※先着順、定員になり次第締切
・費用:参加費  3,000円/人
※3/4見学会受付にて夕食会費と同時徴収
プレー費 12,840円/人 ※ゴルフ場にて個人精算
(税込、キャディ付、飲食代含まず)

■備考:上記の詳細は、必要に応じ後日ご参加の方に
ご連絡致します。
ご不明な点がありましたら、下記へお問い合わせください

■お問合せ先:
大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局
担当:島添/衛藤
(大分県産業科学技術センター内)
〒870-1117 大分市高江西 1-4361-10
TEL/FAX: 097-596-7179
e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
ホームページ: https://www.oita-lsi.jp/

九州半導体・エレクトロニクスイノベーション協議会
担当:平井、牧野
〒812-0013 福岡市博多区博多駅東2-15-19
KS・T駅東ビル302号
TEL :092-473-6649 / FAX:092-473-6488
e-mail: info@siiq.jp
添付資料1(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議
 会員企業の皆様へ

            グローバルマーケティング部会
            部会長 鈴木 清己

「中国知的財産セミナー(相談会)」開催案内

 ジェトロ大分貿易情報センター主催にて、下記セミナーを開催致します。
 国際間の商取引の前提として、知的財産(知財)の問題は避けて通る事ができず、特に中国との商取引を考える上での
知財問題は相変わらず日系企業の関心が高い状況です。このような背景から、本セミナーを実施し、最近の中国における
知財問題の事例、日系企業が中国でオペレーションをする上での知財関連の留意事項について講演致します。
 また、皆さまが日頃悩んでおられることについても、講演に引き続いて講師の方よりアドバイス頂けるように
相談会も実施致しますので、是非ご参加下さい。
 ご参加を希望される場合は、添付の参加申込書に必要事項を記載の上、本メールあてご返信またはFAXいただきますようお願い申し上げます。

【開催日時】平成28年2月8日(月)
 講演会    13:30 ~ 15:30
 相談会    16:00 ~ 17:00
(中国だけでなく、台湾含め他地域への相談も可能です)

【開催場所】トキハ会館 5階 カトレアの間
      大分県大分市府内町2-1-4

【タイトル】「中国知的財産セミナー」
 <トピックス>
 ・最近の中国における(外資系企業、ひいては日系企業が
  絡んだ)知的問題の事例
 ・日系企業が中国でオペレーションする上での知的関連の
  留意事項
 ・知財問題でもめた場合の対応

【講演者】 曽我法律事務所 弁護士 岩井久美子様

【主 催】 ジェトロ大分貿易情報センター

【締め切り】2月1日(月)

【問い合わせ先/申込先】
  大分県LSIクラスター形成推進会議
   事務局 担当:東/衛藤
  (大分県産業科学技術センター内)
  〒870-1117 大分市高江西 1-4361-10
  TEL/FAX: 097-596-7179
  e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
  ホームページ: https://www.oita-lsi.jp/
添付資料1(PDF)

大分県LSIクラスター形成推進会議
                 平成27年8月3日
会員の皆様へ
             グローバルマーケテイング部会
             部会長    鈴木 清己

上海集積回路産業協会講演会 参加者募集のお知らせ

 本年度より大分県LSIクラスター形成推進会議がJETRO地域間交流支援事業(RIT)を活用して交流を開始しました中国、上海市の上海集積回路産業協会の事務局より2名、会員企業1名の方が来県されます。
 上海集積回路産業協会は会員400社以上からなる中国でもトップクラスの半導体関連企業協会であり成長を続ける中国の半導体産業の大きな役割を担っています。

 今回来県を機に上海集積回路産業協会事務局の陶金龍副秘書長に下記の日程で講演をして頂くことになりました。
 中国の半導体産業の現状と将来を知る又とない貴重な機会でありますので皆様方多数のご参加をお願いします。

 なお上海集積回路産業協会は外部団体とこのような交流を行うのは初めてとのことです。

日時 : 8月25日(火)
 受付 15:00-15:30
 講演 15:30-17:30

講演題目 : 発展する半導体産業の現状と今後の動向
                       
講師   : 上海集積回路産業協会事務局副秘書長
                陶金龍 氏

会場   : トキハ会館 5階 カトレアの間
       大分市府内町2丁目1番1号

なお 講演後 大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆様は懇親会行いますのでご参加下さい。
 懇親会 17:30-19:30
(参加費 5000円/人 受付にて徴収)

会場 : ローズの間(講演会場の向かい)

参加希望者は 別紙 参加申込書にてFax又はEメールにて申込みください。

申込み期限 : 8月17日(月)

宛先: 大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局
   Faxの場合 Fax番号 097-596-7179 
   電子メール  oita-lsi@columbus.or.jp

問い合わせ先  電話/Fax 097-596-7179
        担当 東 or 衞藤
添付資料1(Word)   添付資料2(Word)

                 LSI第25-1号
                 平成27年7月9日

大分県LSIクラスター形成推進会議
会員の皆様へ

          大分県LSIクラスター形成推進会議
          会長  森 重哉

平成27年度大分県LSIクラスター形成推進会議総会/フォーラムの開催について(ご案内)

 時下、ますますご清祥のこととお喜び申し上げます。
 大分県における半導体産業の振興につきましては、平素から格段のご協力をいただき、厚くお礼申し上げます。
 当推進会議は、半導体関連の地場企業と進出企業の共生・発展を図るために、産学官が一体となって戦略的に取り組む「おおいたLSIクラスター構想」の推進機関として、中核的な役割を担って参りました。また、平成27年度には新たな中期ビジョンを策定し、現在「世界の情報を大分へ、大分の企業を世界へ!」というスローガンの下で研究開発、人材育成、販路開拓、会員交流の4つの柱を中心に活動を進めているところです。
 今般、産学官の人的ネットワークの拡大及び企業の発展と活性化のための意識啓発を目的として、平成27年度の総会/フォーラムを、下記のとおり開催することとしました。
 総会では、「おおいたLSIクラスター」の事業報告を行います。フォーラムでは、日本電子デバイス産業協会(NEDIA)代表理事・会長、株式会社東芝 常任顧問 齋藤昇三氏に基調講演を、経済産業省 デバイス産業戦略室長 宮zア貴哉氏に特別講演をお願いしており、非常に有益な情報をご提供いただけるものと存じます。
 本総会/フォーラムでは、当推進会議の会員はもとより会員以外の企業の参加も募っており、終了後は交流会(参加料:3,000円)も予定しておりますので、情報交換、ネットワーク拡大の好機として、是非とも積極的にご参加くださいますようお願い申し上げます。
 なお、出欠につきましては、別添の参加申込書にご記入の上、8月7日(金)までにファックス又は電子メールでご回答願います。

        記

1 開催日時 平成27年8月19日(水)14:00~19:00

2 開催場所 レンブラントホテル大分
      〒870-0816大分県大分市田室町9-20
       (TEL 097-545-1040)

3 主催 大分県、大分県LSIクラスター形成推進会議
   
4 開催内容 別添プログラムのとおり

5 申込期限 平成27年8月7日(金)

6 連絡先 大分県LSIクラスター形成推進会議事務局
(担当:高口、衛藤)
     〒870-1117 大分市高江西1-4361-10
     TEL/FAX:097-596-7179
 E-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
添付資料1(PDF)   添付資料2(Word)

                    平成26年5月29日

大分県LSIクラスター形成推進会議
会員の皆様へ

          大分県LSIクラスター形成推進会議
               会長  森 重哉

平成26年度大分県LSIクラスター形成推進会議総会/フォーラム
の開催について(ご案内)

時下、ますますご清祥のこととお喜び申し上げます。
大分県における半導体産業の振興につきましては、平素から格段のご協力をいただき、厚くお礼申し上げます。
 当推進会議は、半導体関連の地場企業と進出企業の共生・発展を図るために、産学官が一体となって戦略的に取り組む「おおいたLSIクラスター構想」の推進機関として、中核的な役割を担って参りました。また、平成20年度には中期ビジョンを策定し、現在「世界の情報を大分へ、大分の技術を世界へ!」というスローガンの下で研究開発、人材育成、販路開拓・情報提供、会員交流の4つの柱を中心に活動を進めているところです。
今般、産学官の人的ネットワークの拡大及び企業の発展と活性化のための意識啓発を目的として、平成26年度の総会/フォーラムを、下記のとおり開催することとしました。
総会では、「おおいたLSIクラスター」の事業報告を行います。フォーラムでは、東京大学大学院経済学研究科ものづくり経営研究センター 特任研究員 吉川 良三 氏に基調講演を、立命館アジア太平洋大学 学長 是永 駿 氏に特別講演をお願いしており、変革による日本のものづくりの復活と新たな創出やグローバル・スタンダードなど、非常に有益な情報をご提供いただけるものと存じます。
本総会/フォーラムでは、当推進会議の会員はもとより会員以外の企業の参加も募っており、終了後は交流会(参加料:3,000円)も予定しておりますので、情報交換、ネットワーク拡大の好機として、是非とも積極的にご参加くださいますようお願い申し上げます。
 なお、出欠につきましては、別添の参加申込書にご記入の上、6月30日(月)までにファックス又は電子メールでご回答願います。

     記

1 開催日時 平成26年7月16日(水)14:00~19:00

2 開催場所 大分オアシスタワーホテル 5階 孔雀の間
      大分県大分市高砂町2-48(TEL 097-533-4411)

3 主催 大分県、大分県LSIクラスター形成推進会議
   
4 開催内容 別添プログラムのとおり

5 申込期限 平成26年6月30日(月)

6 連絡先 大分県LSIクラスター形成推進会議事務局
(担当:衛藤)
     〒870-1117 大分市高江西1-4361-10
     TEL/FAX:097-596-7179
 E-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
添付資料1(PDF)   添付資料2(Word)

九州公開講座(知的蓄電池制御システムの設計と応用)のご案内
平成26年3月25日(火)~26日(水)の2日間9:30~17:30
申込〆切 3月18日

大分県LSIクラスター形成推進会議
 会員の皆様へ

           研究開発専門部会長 樋口 嘉
           会員交流専門部会長 丸井 彰

~平成25年度研究開発ワーキンググループ成果報告会及び
 技術者交流会のご案内~

 大分県LSIクラスター形成推進会議では、会員企業の方々を対象に、成果報告会及び技術者交流会を開催いたします。
 今年度、LSIクラスターの助成を受け研究開発に取り組んだ成果をお聞き頂くとともに、技術者交流会にてネットワークを構築し、ビジネスのヒント等にお役立ていただければと存じます。

【日時】
 平成26年3月11日(火)13:00~19:30

【場所】
 労働福祉会館ソレイユ 7F
(大分市中央町4丁目2番5号 TEL:097-533-1121)

【プログラム】
13:00~
 平成25年度研究開発の成果報告(7Fアイリス) 

(1)コンタクトピンエクスチェンジャーWG
   …シェルエレクトロニクス㈱
(2)イオン発生モジュールWG … ㈱エリア
(3)SIP製品工法開発WG … ㈱デンケン
(4)IC搬送機構研究WG
   … エスティケイテクノロジー㈱
(5)バーンインボード温調ユニット研究WG
   … エスティケイテクノロジー㈱
(6)無塵マイクロナノバブル洗浄WG
   … 大分ゼネラルサービス(株)
(7)PVテクスチャリングWG … ワイエイシイ(株)
(8)リニアモータ開発WG … (株)石井工作研究所

17:00~
 講演
  『半導体・液晶の潮流と共創:
      ITが促進するネットワーキング』
 講師
  立命館アジア太平洋大学 
  アジア太平洋イノベーション・マネージメント・センター
  センター長 中田行彦教授

17:30~
 技術者交流会(7Fカトレア)

19:30  閉会

【参加対象者】
 大分県LSIクラスター形成推進会議会員企業の方々
 (ぜひ社内へ回報くださるようお願いいたします)

【参加費】
 成果報告、講演会は無料、交流会は参加費2千円/人

【申込〆切】
 3月5日(水)まで

【参加申込】
 添付申込書にご記入の上Fax又はメール添付にて
 事務局までお送りください

【お問い合わせ】
 大分県LSIクラスター形成推進会議事務局
 〒870-1117大分市高江西1-4361-10
 (大分県産業科学技術センター内) 
 Email: oita-lsi@columbus.or.jp
 Tel/Fax: 097-596-7179
添付資料1(Word)   添付資料2(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆様へ
                 11/14/2013

 今年度末までの 海外交流の予定につきまして事務局よりご案内いたします。
 正式な募集案内は追って発信いたしますが、皆様方の予定表の中にご記入頂き、参加のご検討をして頂きます様お願い申しあげます。

  < 日程等 >
1. 2014年  2/11(火)-2/13(木)  

 **** 韓国 亀尾市訪問 及び
     セミコンコリア(ソウル) 視察 ****

2/11(火)  福岡空港発 ->釜山空港
         送迎 バスにて 亀尾市へ移動
         企業訪問  1社
         亀尾市表敬訪問
         交流会
         亀尾市に宿泊

2/12(水)  企業訪問 午前 1社 、午後 1社
         KTX(韓国新幹線)で ソウルへ移動
         ソウルに 宿泊

2/13(木)  セミコンコリア 視察
         視察後
         仁川空港より帰国( 延泊は自由 )
         訪問企業は 半導体、医療、自動車関連
         から各1社の予定です。

2. 2014年  3/18(火)-3/20(木) 

**** 台湾設備協会(TEEIA)会員企業との商談会
       及び セミコンチャイナ(上海)視察****

3/18(火)  福岡空港発 ->上海(浦東)空港
         借り上げバスにて 市内へ移動
         午後  企業訪問  1社
         ( 未定 SMICの可能性有)
         上海に宿泊

3/19(水)  午前中  セミコンチャイナ視察
         午後   商談会
        (セミコンチャイナ出展TEEIA会員企業)
         交流会
         上海に宿泊

3/20(木)  午前中  セミコンチャイナ視察
         視察後  上海(浦東)空港より帰国

海外の情報を吸収でき“海外を知る”良い機会でございます。
現地にて合流、解散も可能です。ご検討の程、よろしくお願い申し上げます。 

問い合わせ先
大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局
 (販路開拓・情報提供担当: 東)
 電話/Fax 097-596-7179
 電子メール oita-lsi@columbus.or.jp
添付資料1(PDF)

大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆さまへ

                 研究開発専門部会
                 部会長 樋口 嘉

テスト技術セミナーのご案内

 大分県LSIクラスター形成推進会議 研究開発専門部会では、下記のとおりテスト技術をキーとして、昨年度作成したロードマップのアップデート並びに、テスト技術の動向について技術セミナーを開催いたします。
 関連会員企業の皆さまには、自社の立ち位置の確認や将来の研究開発に向けての指針としてご活用いただければ幸いです。また、新たなビジネスを模索している企業の皆さまにとって絶好の機会です。この機会を是非ご活用いただきますようお願いいたします。
 参加を希望される場合は、添付の参加申込書に必要事項を記載の上、本メール宛て返信またはFAXいただきますようお願い申し上げます。

【開催時期】平成25年12月20日(金)13:30~17:15
【開催場所】大分県産業科学技術センター 第1研修室
      〒870-1117 大分市高江西1丁目4361-10
           TEL 097-596-7100
【開催概要】
13:30-13:35 研究開発専門部会 樋口部会長挨拶
13:35-13:45 テストセミナーについて
      大分大学工学部 准教授 大竹哲史 氏
      県内企業のニーズとテスト技術セミナーの概説
13:45-14:35 【演題】ロードマップアップデート
      【講師】九州工業大学 特任教授 佐藤康夫 氏
      昨年度作成のロードマップからのアップデート、
      ITC2013のホットトピックスなどを紹介する。
14:35-14:50 質疑応答
14:50-15:05 休憩
15:05-16:10 【演題】テスティング技術動向
      【講師】大阪大学 教授 中前幸治 氏
 ウェーハレベルプロービングの動向と、テスティング技術
 を、特に11月に開催された第33回ナノテスティング
 シンポジウム(旧:LSIテス ティングシンポジウム)にて
 発表された関連するテスティング技術を紹介する。
15:55-16:10  質疑応答
16:10-17:00 【演題】オンチップ測定・高速アナログ試験技術
          の課題と最新動向
       【講師】アドバンテスト研究所 山口隆弘 氏、
        VTS2013、ITC2013などで議論された高速I/O
       試験課題やADC試験のホットトピックス、
       さらに、あるUSファブレス会社の量産試験への
       取組みを紹介する。ジッタ測定回路(JSSC,
       Nov,2012)やオンチップ測定回路(ITC2011)
       などの最新技術概要とその研究動機についても
       説明する。
17:00-17:15 質疑応答

なお、セミナー終了後に大分市内で講師を囲んで交流会を開催いたします。奮ってご参加ください。(交流会費 : 4000円)

【 受講料 】無料
【申込〆切】12月13日(金)まで
【問い合わせ先/申込先】
大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局 秋本、秋月
(大分県産業科学技術センター内)
〒870-1117 大分市高江西 1-4361-10
TEL/FAX: 097-596-7179
e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
添付資料1(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆さまへ
       大分県LSIクラスター形成推進会議
       人材育成専門部会長  安部 征吾

海外市場開拓ビジネススキルアップ研修のご案内
【2013年度RIT事業】

 アジアでビジネスをしていくために「華人」を徹底的に理解するためのセミナーです。「華人」とは中国だけではなく台湾、香港、シンガポール、アジア諸国の経済活動の中核にいる華僑の人々など、広い意味での中国人系の人々を指し、彼らは住んでいる地域が違っていても共通の価値観や考え方を持っています。
 このセミナーでは、贈り物、食事のマナー、お酒の飲み方など身近なテーマで日本人が注意しなければならない点を解説し、彼らとうまくつきあっていく方法について学びます。
 また、彼らの商習慣や仕事の進め方の違い、仕事に向き合う姿勢(就業意識)を理解することで、仕事上で彼らとうまくビジネスを進めるノウハウ、注意点を学びます。アジアビジネスに取り組んでいる企業の皆さんはぜひご参加ください。
 また、セミナー終了後には希望者を対象としたQ&Aの時間、「個別相談」の時間をたっぷり設けています。セミナーでは話しつくせなかったポイントやより踏み込んだ事例の紹介、個別の案件に関する相談などを受け付けます。ぜひ、この機会をご利用ください。
また、関係の皆様へもご回報をお願いいたします。

【開催日時】
平成25年11月19日(火)~20日(水)の2日間
 2日共10:00~15:30
15:30~17:30はQ&A及び個別相談方式で
ピンポイントアドバイス(希望者のみ)

【開催場所】
大分県産業科学技術センター 第1研修室
〒870-1117 大分市高江西1丁目4361-10 TEL097-596-7100

【講師】
Taipei Computer Association(TCA) 東京事務所 駐日代表
NPO法人アジアITビジネス研究会 理事 吉村 章 氏
プロフィール : http://www.asia-net.biz/yoshimura.html

【受講料】無料

【開催概要】
■テーマ1「アジアビジネスのタブー/やってはいけないこと」
1)贈り物のマナー、食事とお酒のマナー
2)アジアビジネス/異文化理解の基本姿勢
3)台湾人・中国人の価値観・考え方を理解する
4)Q&A、個別相談

■テーマ2「仕事上のタブー/コミュニケーション上の注意点」
1)台湾人・中国人の仕事観、就業意識を理解する、
  会社に対する忠誠心を育てる
2)日本型の組織とどう違うか、チームワークの違い
  /リーダーの役割の違い
3)契約/約束を守ってもらうためにはどうしたらいいか、
  /安全と危ない
4)Q&A、個別相談
※詳細は、添付資料を参照下さい。

【定員】36名 (先着順締め切り)

【申込/問い合わせ先】
大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局 秋本、秋月
〒870-1117 大分市高江西 1-4361-10
TEL/FAX:097-596-7179 e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp

【交流会】
 なお、11/20終了後に大分市内で講師を囲んで交流会を
 開催いたします。
 奮ってご参加ください。(交流会費 : 4,000円)
添付資料1(Word)   添付資料2(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆さまへ
         人材育成専門部会 部会長 安部 征吾

  MEMS技術セミナーのご案内

人材育成専門部会では、本年度『MEMS技術』について以下のとおり3回シリーズでの取り組みを計画しています。

第1回 学のシーズ技術紹介
・MEMS技術のなかでエネルギーに関係するホットな話題
・具体化に協力していただける企業を求めている取り組みについて

第2回 京都大学施設見学ツアー

第3回 参画希望企業による提案・技術交流

 今回は、学の提示するMEMSシーズ技術に触れ、参加企業との意見交換等交流を行います。
 併せて、土屋講師及び神野講師による企業視察・個別相談(10/30)を計画しています。
 新たなビジネスを模索している企業の皆さまにとって絶好の機会ですので是非ご活用頂きますようお願い致します。
 参加を希望される場合は、添付の参加申込書に必要事項を記載の上、本メールあて返信または、FAXいただきますようお願い申し上げます。視察受入につきましてもご協力をお願い致します。

…………… 第1回 学のシーズ技術紹介 ……………
【開催日時】平成25年10月29日(火)13:30 ~ 17:00
【開催場所】大分県産業科学技術センター 第1研修室
      〒870-1117 大分市高江西1丁目4361-10
      TEL 097-596-7100
【開催概要】
13:30~13:35 人材育成専門部会長挨拶
13:35~14:15 【講師】神戸大学大学院工学研究科
           機械工学専攻
           教授 神野 伊策 氏
             (かんの いさく)
       【演題】圧電薄膜を用いた発電デバイス
14:15~14:30  質疑応答

14:30~15:10 【講師】兵庫県立大学大学院工学研究科
           機械系工学専攻 機械知能工学部門
           准教授 生津 資大 氏
              (なまづ たかひろ)
       【演題】自己伝播発熱素材を用いた
                  瞬間ハンダ接合技術
15:10~15:25  質疑応答
15:25~15:35 (休憩)

15:35~16:15 【講師】京都大学大学院工学研究科
           マイクロエンジニアリング専攻
           准教授 土屋 智由 氏
              (つちや としゆき)
       【演題】静電容量型MEMSセンサ,
                  アクチュエータ:
          -多軸加速度センサと波面補償ミラー
16:15~16:30  質疑応答
16:30~17:00  意見交換/名刺交換

なお、セミナー終了後に大分市内で講師を囲んで交流会を開催いたします。奮ってご参加ください。(交流会費 4,000円)

【受 講 料】無料
【申込〆切】10月25日(金)
【問い合わせ先/申込先】
   大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局 秋本、秋月
   TEL/FAX: 097-596-7179 添付資料1(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆さまへ
大分県LSIクラスター形成推進会議
人材育成専門部会長 安部 征吾

【2013年度RIT事業】海外市場開拓ビジネススキルアップ
研修のご案内

このたび大分県LSIクラスター形成推進会議では日本貿易振興機構(ジェトロ)大分貿易情報センターと共催で標記研修を実施いたします。会員の皆様にはぜひご参加いただきたくご案内申し上げます。
海外進出のノウハウを実践事例を紹介しながら実習も交えて2日間で徹底的に考えていくセミナーです。初日午前の基本レクチャーのあと、午後は「強み」をどう見極めて、自社製品をどのようにPRしたらいいか、効果的な主張のテクニックを取り上げます。2日目は狭いブースを展示会効果的に活用する方法、来場者の足を止めさせ、商談に持ち込むためのテクニックなど、実践的ですぐに使えるノウハウを紹介します。また、両日とも15:30以降は希望者のみを対象にしてセミナーでお話する内容を自社製品にどう活用したらいいか、個別相談方式でピンポイントのアドバイスを聞く機会も設けました。今回のセミナーは台湾・中国に限らず、アジア圏の他の地域でも十分に活用いただける内容です。
近年の日本を取り巻く経済環境は、十数年に及ぶ低迷を経てようやく回復の兆しが見えかけた状況にあります。一方、中国・台湾等のアジア圏は、経済発展の途上にあり、活気ある市場を呈しています。
こうした中、活路を海外に求め、確かな技術を背景にした販路拡大を図る機会を捉えるため、当推進会議では、ジェトロのRIT事業(日本の特定地域と海外の特定地域のビジネス交流をサポートするスキーム)を活用しながら台湾とのビジネス交流と昨年度から強化し、展示会への出展支援、商談会の開催など会員企業の販路開拓を支援しています。参加をご希望の際は、添付の参加申込書に必要事項をご記載の上、下記申込先宛送付または、FAXいただきますようお願い申し上げます。
【開催日時】平成25年8月5日(月)~6日(火)の2日間
2日共10:00~15:30
15:30以降は個別相談方式で自社製品への応用を
ピンポイントアドバイス(希望者のみ)
【開催場所】大分県産業科学技術センター 研修室
〒870-1117 大分市高江西1丁目4361-10
TEL 097-596-7100
【講  師】 Taipei Computer Association(TCA) 東京事務所
駐日代表 NPO法人アジアITビジネス研究会
理事 吉村 章 氏
プロフィール http://www.asia-net.biz/yoshimura.html
【 受講料 】無料
【開催概要】
■テーマ1「アジアビジネスに取り組む基本姿勢と注意点」
1)「成功事例」と「失敗事例」に見る海外進出のポイント
と注意点
2)日本企業が躓きやすいポイントを整理して、その克服法
を考える
3)ビジネスを成功に導くネットワーク作りのノウハウと
その実践事例
■テーマ2「海外市場開拓における効果的な製品PRと注意点」
1)効果的な製品紹介/自己紹介のテクニック(「強み」の整理
と見極めの方法)
2)相手に「主張」を伝えるための効果的な主張テクニック
3)「強み」PRシートの作成(実習)とそれを効果的に活用
する3つの応用方法
■テーマ3「展示会を有効に活用する出展ノウハウと注意点」
1)「成功事例」に見る展示会出展のノウハウ、ブースの
積極的活用法
2)効果的なポスターの作り方、製品の配置/陳列の基本原則、
印刷物の作り方
3)来場者の足を止めさせ/ブースに誘導し/説明から商談へ
持ち込むためのテクニック
【定  員】40名
【申込/問い合わせ先】
大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局 秋本、秋月
〒870-1117 大分市高江西 1-4361-10
TEL/FAX: 097-596-7179 e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
【交流会】6日終了後に大分市内で講師を囲んで交流会を
開催いたします。
奮ってご参加ください。(交流会費 : 4,000円)

以上
添付資料1(PDF)   添付資料2(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議
県内会員企業各位

          大分県LSIクラスター形成推進会議
          人材育成専門部会 部会長 安部 征吾

大分大学公開講座「システムLSI設計特論第一」
       (LSIクラスター助成講座)のご案内

 平素より、大分県LSIクラスター形成推進会議の事業推進にご協力賜わり、厚くお礼申しあげます。
 この度、大分大学で標記講座が実施されますので、会員皆さまにご案内します。
 本講座は、LSIの開発・設計、セット・システムへのLSIの応用、ならびにLSIに関する周辺技術の開発・サービスなどに携わる将来の技術者の育成・輩出、そして既に企業に在籍していて同上分野での技術範囲の拡大・技術力強化を目指している地域企業技術者の育成のため、システムLSI設計に必要な実践的知識の会得を目的として実施されます。
 当推進会議では、人材育成事業の一環として、本講座に社員を派遣される会員企業に対して、受講料の一部を助成いたしますので、この機会に是非御社の技術者の講座への派遣をご検討下さい。

(詳細は、別紙参照)

・公開講座の名称 :システムLSI設計特論第一
・実施時期    :平成25年7月30日~8月2日(4日間)
・実施場所    :大分大学工学部電気電子工学科 電子工学教室棟
・対象者     :県内企業半導体関連技術者 10名まで
・受講料     :9,200円
・締め切り    :7月12日(金)
・申し込み先   :大分大学学生支援部 教育支援課公開講座・授業担当 宛
           (TEL 097-554-7641、8522)

申し込みの際には、大分県LSIクラスター形成推進会議の会員であることを必ず大学にお伝えください。

※注記※
・大分県LSIクラスター形成推進会議の会員企業の方は、受講申込書を大分大学に提出していただくと同時に、その受講申込書のコピーを添付した助成金申請書をLSIクラスター形成推進会議事務局までお送り下さい。受講料の2/3以内をLSIクラスター形成推進会議が助成します。

【 問い合わせ先】
 大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局 秋本
 TEL/FAX: 097-596-7179
 e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
添付資料1(Word)   添付資料2(Word)

当推進会議では産学官の人的ネットワークの拡大及び企業の発展と活性化のための意識啓発を目的として、平成25年度の総会/フォーラムを開催します。
 詳細は添付資料ご参照ください。

1 開催日時 平成25年7月17日(水)14:00~19:00

2 開催場所 レンブラントホテル大分
         
 総会では「おおいたLSIクラスター」の事業報告を行います。
 フォーラムでは当推進会議企画委員長の(株)ジェイデバイス 代表取締役社長 仲谷 善文 氏に基調講演を、技術顧問の広島大学 ナノデバイス・バイオ融合科学研究所長 吉川 公麿 氏に特別講演をお願いしており、大分の半導体産業の展望や半導体技術の医療分野への応用など、非常に有益な情報をご提供いただけるものと存。
 本総会/フォーラムでは、当推進会議の会員はもとより会員以外の企業の参加も募っており、終了後は交流会(参加料:3,000円)も予定しています。
 参加ご希望の方は、別添の参加申込書にご記入の上、7月5日(金)までにファックス又は電子メールでお申し込みください。 添付資料1(PDF)   添付資料2(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議
県内会員企業各位
               人材育成専門部会長
                 安部 征吾

平成25年度半導体基礎講座(3日コース)の開講について

 いつもLSIクラスターへのご協力ありがとうございます。
 さて、人材育成専門部会では、半導体産業や製造・技術・テスト・間接業務に従事している方、または予定がある企業新規採用者、就職予定者、学生および会員企業の方を対象とした下記講座を開講します。
 また、急激な景気の変動など経済上の理由により雇用労働者の休業、教育訓練等を行った場合に手当や賃金等の一部が助成される雇用調整助成金を活用できる教育訓練講座となっています。
 多数参加されますようご案内申し上げます。

○講座内容:
・半導体基礎講座(3日コース)
○期間:6月12日(水)、19日(水)、26日(水)
 各日とも 9:00-17:00
○場所:大分県産業科学技術センター
   半導体製造工場
○講師:大分大学 電気電子工学科 教授  益子洋治氏
   半導体人材育成教育コンサルタント 筒井信明氏
   株式会社エリア 技師 古庄 潤氏
○定員: 30名
○受講料: 1,000円/日
○申込期限: 5月31日(木)
※詳細は別添パンフレットを参照下さい。

○参加申込方法:
■申込書 「半導体基礎講座(13-01,02,03)申込書」
 に必要事項をご記入のうえ、E-mail またはFAX で
 下記申込先へお送りください。
■ ご都合によりご出席できない場合は、事前にご連絡ください。
■ 申込人数が定員に達し次第締め切らせて頂きます。
○申込先:
 FAX (0977)73-2486
 E-mail et-course@elia.co.jp
 〒879-1507大分県速見郡日出町大字豊岡799番地1
 ㈱エリア 古庄/田辺(0977)73-2485

「雇用調整助成金」を活用できる教育訓練講座です。
(この制度を利用する場合は、各企業にて、講座内容をもとにハローワークに事前に申請する必要があります)
添付資料1(PDF)   添付資料2(Word)

                  平成25年1月29日 
大分県LSIクラスター形成推進会議                
    会員の皆様
                               販路開拓・情報提供専門部会
                                            部会長   鈴木 清己 
             ビジネス英語セミナーのご案内

 近年、海外との取引に限らず国内取引でも英語の重要性が増して来ております。然しながら、
日本人の英語力は依然 他のアジアの国に比べても劣っているとも言われております。

このたび、会員の皆様方の英語力の向上を目的として、長年、日本TIその他でビジネス英語の指導をされている
講師(米国人)を迎えて、ビジネス英語セミナーを下記の日程で開催いたします。

 1. 日時 : 2月28日 (木)   14:00-16:00

 2. 場所 : 産業科学技術センター  多目的ホール

 3. 講師 : Patricia Hara 氏 (PES英会話スクール校長) 
                                       
 4. 内容

① 挨拶の仕方
② Eメールの書き方
③ 電話対応
④ 会話でのキーポイント
⑤ プレゼンテーション方法
⑥ その他

 5. 受講料  無料 

豊富な指導経験をお持ちの講師ですので実践で役に立つ情報が満載と思われます。
 現在、仕事で英語を必要とされている方、これから必要と思われる方、また社員教育の参考に
 されたい方等、多くの方々の参加を期待します。
 参加を希望される場合は添付の申込用紙にご記入の上E-mailまたはFaxにて2月15日
(金)までにお申込みください。  

 なお セミナーは 英語を主に日本語と混用した形で行われます。
 ご不明な点は 下記までお問い合わせください。

                         大分県LSIクラスター形成推進会議事務局 
                           Tel/Fax 097-596-7179
                            担当  東 添付資料1(Word)   添付資料2(Word)

大分県LSIクラスター形成推進会議
    会員の皆様
                                  販路開拓・情報提供専門部会
              部会長    鈴木 清己 

   台湾視察及び台湾電子設備協会(TEEIA)会員企業との商談会・交流会のご案内
                 ( 参加者 募集 )
一昨年のMOU締結以降、皆様方の積極的ご参加によりまして、おおいたLSIクラスターと台湾電子設備協会とのビジネス交流は着実に進んでおります。昨年12月の大分での商談会では3組のMOU締結を達成しておりさらに新たな商談案件も生まれております。
今回、場所を台湾に移しまして下記の通り新たな交流の場を設けます。
今回の商談会・交流会は台湾電子設備協会の2012年度の総会に合わせて開催いたします。総会には例年会員企業の80%(80社)が参加(TSMCとNANYAは交流会に参加)とのことですので、多くの台湾企業との交流が期待できる滅多にない機会と思われます。 皆様方の積極的な参加をお待ちしています。

台湾電子設備協会は、当日総会前にゴルフを予定しておりますが、希望される方はどなたでも参加できます。
会場: 台北国際ホテル       商談会、交流会 と 宿泊 
http://travel.rakuten.co.jp/HOTEL/38190/38190.html
またゴルフ場は林口台北ゴルフ場です。  (プレイ費は個人払い)
http://www.taipeigolf.com.tw/index.asp
参加を希望される場合は添付の申込用紙にご記入の上E-mailまたはFaxにて2月12日(火)まで
にお申込みください。  
 ご不明な点は 下記までお問い合わせください。
                   大分県LSIクラスター形成推進会議事務局 
                    Tel/Fax 097-596-7179
                    担当  東 /佐藤/高口
添付資料1(Word)   添付資料2(Word)

平成25年1月31日

大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆さま

人材育成専門部会 部会長 安部 征吾

第3回 MEMSセミナーのご案内

 携帯デバイスへの応用でMEMSが身近なものとなっています。MEMSはLSIで培われた半導体微細加工技
術で機械要素を作製する技術を利用しており、今後、LSIと並んで、電子電気機器の基幹部品となると考えられ
ています。
 本セミナーでは、『MEMSの基礎と応用』と題して、3回シリーズで、MEMSの歴史や基礎となる材料・加
工技術、デバイスから現在の課題、将来の展開が期待される分野などを紹介しております。
新たなビジネスを模索している企業の皆さまにとって絶好の機会ですので是非ご活用いただきますようお願い
いたします。
参加を希望される場合は、添付の参加申込書に必要事項を記載の上、本メールあて返信または、FAXいただ
きますようお願い申し上げます。

【開催日時】平成25年2月21日(木) 14:00 ~ 16:30

【開催場所】大分県産業科学技術センター 第1研修室
        〒870-1117 大分市高江西1丁目4361-10
TEL 097-596-7100
【講  師】 京都大学大学院工学研究科
マイクロエンジニアリング専攻  准教授 土屋 智由 氏

【開催概要】   『MEMSの基礎と応用』
第1回 「MEMSとは」 : 平成24年12月18日(火): 終了しました。
           MEMSとマイクロマシン・応用デバイス(センサ、アクチュエータ)等
       第2回 「MEMSの材料・加工技術」: 平成25年1月31日(木): 終了しました。
           材料:シリコン、高分子材料・プロセス技術:リソグラフィ、エッチング、
成膜実装・パッケージング技術 等
第3回 「MEMSの応用」 : 平成25年2月21日(木)
           ナノテクノロジーとMEMS・バイオテクノロジーとMEMS
エネルギーとMEMS 等ビジネスチャンスに向けて

   なお、セミナー終了後に大分市内で講師を囲んで交流会を開催いたします。
   奮ってご参加ください。(交流会費 : 4000円)

【 受講料】無料

【締め切り】2月14日(水) 

【問い合わせ先/申込先】
  大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局 佐藤
  TEL/FAX: 097-596-7179
添付資料1(Word)

                     平成25年1月4日

大分県LSIクラスター形成推進会議会員の皆さま

           人材育成専門部会 部会長 安部 征吾

        第2回 MEMSセミナーのご案内

 携帯デバイスへの応用でMEMSが身近なものとなっています。MEMSはLSIで培われた半導体微細加工技
術で機械要素を作製する技術を利用しており、今後、LSIと並んで、電子電気機器の基幹部品となると考えられ
ています。
 本セミナーでは、『MEMSの基礎と応用』と題して、3回シリーズで、MEMSの歴史や基礎となる材料・加
工技術、デバイスから現在の課題、将来の展開が期待される分野などを紹介しております。
新たなビジネスを模索している企業の皆さまにとって絶好の機会ですので是非ご活用いただきますようお願い
いたします。
参加を希望される場合は、添付の参加申込書に必要事項を記載の上、本メールあて返信または、FAXいただ
きますようお願い申し上げます。

【開催日時】平成25年1月31日(木) 14:00 ~ 16:30

【開催場所】大分県産業科学技術センター 多目的ホール
        〒870-1117 大分市高江西1丁目4361-10
      TEL 097-596-7100

【講  師】 京都大学大学院工学研究科
      マイクロエンジニアリング専攻  准教授 土屋 智由 氏

【開催概要】   『MEMSの基礎と応用』

      第1回 「MEMSとは」 : 平成24年12月18日(火): 終了しました。
           MEMSとマイクロマシン・応用デバイス(センサ、アクチュエータ)等

      第2回 「MEMSの材料・加工技術」: 平成25年1月31日(木)
           材料:シリコン、高分子材料・プロセス技術:リソグラフィ、エッチング、
成膜実装・パッケージング技術 等

      第3回 「MEMSの応用」 : 平成25年2月下旬(予定)
           ナノテクノロジーとMEMS・バイオテクノロジーとMEMS
エネルギーとMEMS 等

   なお、セミナー終了後に大分市内で講師を囲んで交流会を開催いたします。
   奮ってご参加ください。(交流会費 : 4000円)

【 受講料 】無料

【締め切り】1月23日(水) 
添付資料1(Word)

第1回MEMSセミナーを開催いたします。
詳細は、添付資料によりご確認ください。
多くの方のご参加をお待ちしています。

・日時:平成24年12月18日(火)14:00~16:30

・場所:大分県産業科学技術センター 

・講師:京都大学大学院工学研究科
     マイクロエンジニアリング専攻 准教授 土屋 智由 氏

  携帯デバイスへの応用でMEMSが身近なものとなっています。 
  MEMSはLSIで培われた半導体微細加工技術で機械要素を作製す
 る技術を利用しており、今後LSIと並んで、電子電気機器の基幹
 部品となると考えられています。
  本セミナーでは、『MEMSの基礎と応用』と題し、3回シリーズ
 で、MEMSの歴史、基礎となる材料・加工技術、デバイスから現在
 の課題、将来の展開が期待される分野を紹介いたします。

 第1回「MEMSとは」MEMSとマイクロマシン・応用デバイス
     (センサ、アクチュエータ)等
 第2回「MEMSの材料・加工技術」平成25年1月31日(木)
      材料:シリコン、高分子材料
      プロセス技術:リソグラフィ、エッチング、成膜実
      装・パッケージング技術 等
 第3回「MEMSの応用」平成25年2月下旬(予定)
     ナノテクノロジーとMEMS・バイオテクノロジーと
MEMS,エネルギーとMEMS 等

  添付資料1(Word)

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