【日時】 2025年9月19日(木) 15:30～18:45
【場所】 レンブラントホテル大分
【次第】
１．主催者あいさつ 15:30～15:35
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
ネットワーク部会 部会長 安部 征吾
２．講演会 ２階 二豊の間 15:35～17:00
演題：『大学を中核としたグローバル半導体エコシステム＝日本における半導体産業の復興は如何にあるべきか＝』
講師： 國立陽明交通大学 工学博士 寒川 誠二 様
＜講演会参加者数＞ ８４名、４１団体
【安部 部会長 挨拶】 【寒川講師】
【 セミナーの様子 】
３．交流会 ２階 二豊の間 17:15～18:45
＜交流会参加者＞ ５１名
【菅原会長 挨拶】 【丸井副部会長 中締め挨拶】
【交流会の様子】
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様へ
事務局からお知らせ致します。
11月4日に電気エネルギーの有効活用に欠くことのできない
キーテクノロジーである ”パワーデバイス”をテーマとして、
技術セミナーを対面で開催します。
本講演ではＳｉパワーデバイスの最新状況ならびにSiC/GaN最新技術と
今後の動向について、パワーデバイス分野の第一人者である筑波大学の
岩室教授に半導体素子や実装技術、さらには市場予測を含め、
わかりやすく、かつ丁寧に解説して頂きます。
＜開催日時＞
令和7年11月4日（火）10：00～15：00（受付9：30～）
＜開催場所＞
大分県産業科学技術センター 1階 多目的ホール
〒870-1117 大分市高江西1-4361-10
【講師】筑波大学 物理物質系 物理工学域 教授 岩室 憲幸 氏
＜概略＞
１．パワーエレクトロニクス、パワーデバイスとは何？
２．最新シリコンパワーMOSFETとIGBTの進展と課題
３．SiCパワーデバイスの現状と課題
４．GaNパワーデバイスの現状と課題
５．SiCパワーデバイス実装技術の進展
６．まとめ
詳細内容は下記添付のご案内をご参照願います。
【締め切り】 10月23日（木）午前中
お早めに申込みをお願い致します。
＜申込・お問合せ先＞
大分県ＬＳＩクラスター推進会議事務局
担当： 平沖／秋本／楢原まで
TEL／FAX 097-596-7179 メール oita-lsi@columbus.or.jp
パワーデバイス基礎講座案内（ PDF ）
申込書（ WORD ）
【日時】 ２０２５年９月９日（火）
【場所】 ILLUME TAIPEI （ホテル イリューム台北）
【１】開会挨拶
台湾電子製造設備工業同業公会 理事長 林 士青
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 会長 菅原 毅
熊本県工業連合会 会長 宮村 宜明
【２】来賓挨拶
経済部産業発展署 主任 秘書 陳 國軒
九州経済産業局 局長 星野 光明
【３】MOU締結式
①台湾＆大分：HTC社 ＆ 株式会社スズキ
②台湾＆熊本：進期テクノロジー ＆ 吉野電子工業株式会社
台湾、大分県、熊本県の三者による半導体協力MOUを締結。12年の交流の成果を象徴する式典となった。
【４】商談会
目的：台湾企業とのビジネスを創造する
参加：合計５９団体、台湾企業３２社、日本企業２７社（LSIクラスター会員１０社、岩手１社、三重１社
熊本県工連企業１５社）が参加し、計１３５の商談を行った。
【５】交流会
開会挨拶：金屬工業研究發展中心 頼 永祥 執行長
乾杯発声：熊本県 国際委員長 山下 義隆
閉会挨拶：大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 企画委員長 鈴木 清己
参加企業、関係者約２００名が参加し親交を深め、今後の連携強化に向けた信頼関係の構築が図られた。
＜林 理事長のご挨拶＞ ＜菅原 会長のご挨拶＞ ＜宮村 会長のご挨拶＞
＜MOU締結式の様子＞ ＜記念撮影＞
＜商談会 会場＞ ＜商談会の様子①＞ ＜商談会の様子②＞
＜交流会での乾杯＞ ＜鈴木社長のご挨拶＞
＜開催日時＞
令和7年9月2日（火）13：00～15：00
＜開催場所＞
大分県産業科学技術センター 2階 第1研修室
＜講師＞
株式会社日出ハイテック 回路設計エンジニア
（錦戸大樹、田口幸一、西水学、首藤祐志）の４氏
＜概要＞
今回地元企業である株式会社日出ハイテック様のご協力により
オペアンプを主な題材にして初心者向けに本講座を開催
＜内容＞ 目的：OPAMP回路を題材として、回路設計理論を理解する。
１．MOS構造プロセス ２．半導体素子特性
３．OPAMP概要説明 ４．カレントミラー回路
５．作動回路 ６．位相補償
及び回路シミュレーションデモ
＜参加者＞ 7社 15名
会場の様子
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員企業の皆様へ
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
ネットワーク部会
部会長 安部 征吾
大分県LSIクラスター形成推進会議では、トップセミナーを下記の通り開催致します。
台湾の半導体産業が世界で圧倒的な地位を築いた背景には、サイエンスパークを核とした
産学官の連携体制や、研究開発と事業化のスピード感など、注目すべき数々の要素が存在します。
セミナーでは、台湾陽明交通大学の寒川博士をお迎えし、台湾の成功事例を通して日本が今後
どのように半導体産業の競争力を高めていくべきかについてご講演いただきます。
ご参加を希望される場合は、下記ＵＲＬよりアクセスいただき、必要事項の記載をお願いいたします。
【日時】 ２０２５年９月１９日（金）
講演会・・・１５:３０～１７:００（無料）
交流会・・・１７:１０～１８:３０（会費制：５，０００円）
【場所】 レンブラントホテル大分 ２階 二豊の間
【演題】 大学を中核としたグローバル半導体エコシステム
＝日本における半導体産業の復興は如何にあるべきか＝
【講師】 国立陽明交通大学 電機学院電信所 講座教授
東北大学 特任教授
寒川 誠二氏
【対象者】 ＬＳＩクラスター会員の方
【申込み】 https://ttzk.graffer.jp/pref-oita/smart-apply/surveys/3477000441787469328
【締切】 ２０２５年９月５日（金）
【問合先】 大分県LSIクラスター形成推進会議 事務局 担当：矢野／楢原
TEL/FAX: 097-596-7179 e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
令和７年度研究開発及び技術セミナー年間計画のご案内（：イノベーション部会事業）
※各事業は開催可否含めて内容・時期等変更になる可能性があります。詳細は事務局にお問い合わせください。
クラスター会員は基本的に全てのセミナーを無料で受講できます。
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様へ
事務局からお知らせ致します。
初心者向け「アナログ回路設計講座」を9月2日（火）に対面で無料開催します。
“デジタルの時代になぜ、アナログ回路講座？”
デジタル製品の設計や、使用する場合において電源、
寄生効果、高周波・ノイズ対策などアナログ回路の知識が
無ければ高品位の製品設計はできず、また、トラブルへの
対処などアナログ知識の有無で解決レベルに差が出ます。
今回地元企業である（株）日出ハイテック様のご協力により
回路設計実務担当各氏にオペアンプを主な題材にして初心者向け
にわかりやすく講義・説明して頂きます。
この機会に是非ご参加頂き、ご自身のスキルアップに役立てて下さい。
＜開催日時＞
令和7年9月2日（火） 13：00～15：00 （受付12：30～）
＜開催場所＞
大分県産業科学技術センター2階 第1研修室
＜概略内容＞
１． MOS構造プロセス ２． 半導体素子特性
３． OPAMP概要説明 ４． カレントミラー回路
５． 差動回路 ６． 位相補償
及び回路シミュレーションデモ
詳細内容は下記案内をご参照願います。
申込締切：8月27日（水）午前中
ご質問等は事務局担当： 平沖／秋本／楢原 まで
TEL／FAX 097-596-7179 メール oita-lsi@columbus.or.jp
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様へ
ＬＳＩクラスターでは大学・高専との連携推進補助事業として、
大学・高専との共同研究を募集します。
大学・高専の先生方や学生さんとじっくりと取り組んでいただける
共同研究の公募となっています。
〇研究の進展により、随時ミーティングの開催や、成果報告会を
開催します。
〇秘密保持契約も締結可能ですので、安心してご参加ください。
〇事業実施期間はご自由ですが、補助金を活用される企業様は、
一旦、年度末にご報告をいただきます。
※お気軽にご相談ください。事務局がマッチングにご協力します。
1.大分大学
〇対応する学科 ・・・・・・・・・ 理工学科
（情報系，電気電子系，機械系，応用化学系他）
2.大分高専
〇対応する学科 ・・・・・電気電子工学科、機械工学科、
情報工学科、都市・環境工学科
いずれも詳細は別紙を参照願います。
【申請書の締め切り】3月21日（金）
【スケジュール】 別紙参照
【補助金の申請】 共同研究契約書を締結した企業は、申請により
書類審査にて採択します。採択件数2件以内。
2/3補助 (最大30万円/消費税対象外)
補助金を交付します。(予算内) ただし、来年度の予算が成立
することが前提となります。また、補助件数にも限りがございます。
そのため、補助金に関係なく本事業を実施することを前提として、
別紙申請書の提出をお願いします。
お問合せ・申込は 事務局担当 秋本・平沖・後藤まで
TEL／FAX 097-596-7179
メール oita-lsi@columbus.or.jp
※令和７年度大学・高専との連携推進補助事業
募集案内（ PDF ）
実施の流れ（ PDF ）
申請書（ word ）
【日時】令和7年7月29日(火) 9:30～16:30
【場所】産業科学技術センター 多目的ホール
【テーマ】 品質不具合を未然に防ぐ切り札 DRBFM
【概要】DRBFM（Design Review Based on Failure Mode）は
「故障モードをレビューする」の頭文字で、品質不具合を未然に防ぐための手法です。
トヨタ自動車およびトヨタグループでは必須の手法となっています。
本講座では、まずDRBFM の狙いや特徴を理解し、
続いて具体的かつ詳細な手法を解説します。
その上で、グループでDRBFM を創り上げる演習を実施し、理解を深めます。
【講師】寺倉 修 氏
ワールドテック代表取締役
【参加者】 11企業34名
(大分県自動車関連企業会と共催)
イノベーション部会長挨拶 寺倉講師
会場の様子
Design Review発表の様子
【日 時】2025年7月14日（月）14:00～17:10
【場 所】レンブラントホテル大分 ２階 二豊の間
【主催者あいさつ】
大分県副知事 桑田 龍太郎
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 会長 川越 洋規
【来賓あいさつ】
一般社団法人九州半導体・デジタルイノベーション協議会 会長
山口 宜洋 氏
【おおいたＬＳＩクラスター事業報告】
・2024年度活動報告
・2025年度事業計画及び進捗状況･････ 企画委員、各専門部会長
【基調講演】
「キオクシアのモノづくりとサステナビリティ」
講師 キオクシア株式会社 取締役 副社長執行役員
渡 辺 友 治 氏
【特別講演】
「2025年以降の電子機器と半導体展望
～トランプ政権下で日本には追い風が吹き始めた～」
講師 インフォーマインテリジェンス合同会社
シニア コンサルティング ディレクター 南川 明 氏
＜総会参加数＞ 229名(現地：219名、オンライン：10名)，104団体（会員68団体）
【桑田副知事 挨拶】 【川越会長 挨拶】
【ＳＩＩＱ 山口会長 挨拶】
【鈴木企画委員長報告】 【野尻イノベーション部会長 報告】
【石井マーケティング部会長 報告】 【安部ネットワーク部会長 報告】
【キオクシア(株) 渡辺副社長 講演】 【インフォーマインテリジェンス南川氏 講演】
【総会／フォーラムの様子】
【交流会】
＜参加数＞ 166名
【九州経済産業局 星野局長 挨拶】 【佐藤県知事 挨拶】
【交流会の様子】
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様へ
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議事務局
ＬＳＩクラスター技術者塾①：「品質不具合を未然に防ぐ切り札“DRBFM”」
”設計力のプロが演習を通じて実践方法を伝授” 開催のご案内
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議では、今年度も東京で高額開催
される技術者向け「技術者塾」からクラスター会員の希望の多いテーマを
大分で無料開催致します。
DRBFM（Design Review Based on Failure Mode）は「故障モードを
レビューする」の頭文字で、品質不具合を未然に防ぐための手法です。
トヨタ自動車およびトヨタグループでは必須の手法となっています。
本講座では、まずDRBFMの狙いや特徴を理解し、続いて具体的かつ
詳細な手法を解説します。
その上で、グループでDRBFMを創り上げる演習を実施し、理解を深めます。
これにより、実務で実践できるレベルを目指します。
＜セミナー内容＞
〇導入編：問題解決のための創造的手法としてのDRBFM
1．品質不具合の未然防止とは
2．ブレークスルーのための3要件
3．信頼性設計への取り組みの基本
4．新しい設計をやる以上どこかは変わる
5．DRBFMの狙い
〇DRBFM手法解説編：
DRBFMの詳細な手法や勘所を、演習を通し習得
1．QC手法の体系とDRBFM
2．DRBFMとFTA
3．DRBFMの事前準備
4．DRBFMの作成手順
5．DRBFMの運営
6．結果の水平展開
7．まとめ
【開催日時】
令和７年7月２９日（火）9：30～16：30 （受付9：00～）
【開催場所】
大分県産業科学技術センター 1階 多目的ホール（対面開催）
〒870-1117 大分市高江西 1-4361-10
【開催概要】
テーマ： 品質不具合を未然に防ぐ切り札“DRBFM”
講 師 ： 寺倉 修 氏 ワールドテック代表取締役
【受講に関して】
①本講座は無料です。昼食は各自ご準備ください。
②申し込み状況によっては、1社当たりの受講者数を制限することがあります。
【参加対象者】
ＬＳＩクラスター会員に所属する、技術担当者、その他希望者
【申込〆切】 7月２３日（水）午前中
【お問い合わせ先／申込先】
大分県 LSI クラスター形成推進会議 事務局 担当：平沖／秋本／楢原
TEL・FAX 097-596-7179 e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様
2025年 6月 25日
マーケテイング部会
部会長 石井 源太
「台湾商談会in台北」 参加者募集のお知らせ
大分県LSIクラスター形成推進会議では、海外ビジネス交流促進と台湾との連携強化を目的に、台湾電子製造設備
工業同業公会会員企業との商談会を継続してまいりました。
本年4月に熊本市で開催された商談会に続き、9月に台湾・台北市にて 「台湾商談会 in 台北」を開催する運びとな
りました。参加企業様には、事前のマッチングを通じて精度の高い商談機会を提供いたします。是非この機会をご活
用いただき、台湾現地企業との連携や新たなビジネス創出にお役立てください。
なお参加募集は、台湾電子製造設備工業同業公会、台湾金属工業研究発展中心、熊本県工業連合会の会員企業様に
加え、九州半導体・エレクトロニクスイノベーション協議会（SIIQ）、いわてI-SEP、みえ半導体ネットワークの会員
企業への参加を募り、参加企業には希望商談内容を記載した “エントリーシート” を提出していただき、日台事務局が
事前マッチングを行い商談会に臨んでいただきます。
■日程：2025年 9月 9日（火）
・商談会13:00-18:00
・交流会18:00-20:00 ＊交流会費：8,000円／人 を予定（台湾ドルを会場にて集金）
■会場：ILLUME Taipeiホテルイリューム台北(茹曦酒店) 2F
・住所：台湾台北市松山区敦化北路100号 ／ TEL：+886-2-2719-8399
【ご依頼】
・参加ご希望の方は、別紙 『参加申込書』、『エントリーシート』 をご記入のうえ事務局宛てにお申込みください。
・参加申込書提出期限 2025年 7月 15日（火）
【注意事項】
・補助金については、別紙 「台湾商談会in台北に係る補助金のご案内」を参照下さい。 （県内LSIクラスター会員のみ対象）
・企業見学については、9月8日（月）午後、企業視察を計画中です。（参加希望者のみ）
【添付ファイル】
宛先：大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 事務局 （担当 後藤、楢原）
電話／FAX：097-596-7179
Eメール：oita-lsi@columbus.or.jp
ＬＳＩ第１９号
令和７年６月５日
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様へ
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会長 川越 洋規
時下、ますますご清祥のこととお喜び申し上げます。
平素より、大分県における半導体産業の振興に多大なるご理解とご支援を賜り、厚くお礼申し上げます。
このたび、産学官のネットワークをさらに広げ、半導体関連産業の更なる発展に資することを目的として、
令和７年度の総会／フォーラムを下記のとおり開催することと致しました。
総会では、当会議のこれまでの活動報告と今後の方針についてご説明いたします。
フォーラムでは、キオクシア株式会社 取締役 副社長執行役員 渡辺 友治 氏を基調講演にお迎えし、同社の
先進的な取組みや業界展望についてお話しいただく予定です。加えて、昨年度に引き続き、インフォーマ
インテリジェンス合同会社 シニアコンサルティングディレクター 南川 明 氏による特別講演も予定しており、
最新の半導体市場動向について貴重なご知見を共有頂けるものと存じます。
本総会／フォーラムでは、当推進会議の会員はもとより会員以外の企業の参加も募っており、終了後は
交流会(参加料：4,000円)も予定しておりますので、情報交換、ネットワーク拡大の好機として、是非とも積極的に
ご参加くださいますようお願い申し上げます。
■申込方法：下記ＵＲＬまたは添付ファイルの二次元コードからアクセスの上、６月３０日(月)までに登録をお願い致します。
令和７年度大分県LSIクラスター形成推進会議 総会／フォーラム 参加申込
https://ttzk.graffer.jp/pref-oita/smart-apply/apply-procedure-alias/R7LSI-sanka
記
１．開催日時 令和７年７月１４日（月）14:00～19:30
２．開催場所 レンブラントホテル大分 ２階 二豊の間
〒870-0816大分市田室町9-20 (TEL：097-545-1040)
３．開催内容 別添プログラムのとおり
４．主催 大分県、大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
５．連絡先 大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議事務局（担当：矢野／楢原）
〒870-1117 大分市高江西1-4361-10 TEL/FAX:097-596-7179
E-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
日 時： 令和7年6月24日(火) 9:00～17:00
場 所： 大分県産業科学技術センター 多目的ホール
大分電子工業(株) 三重工場
講座内容：
【午前】半導体製造工程概論（組み立て、テスト）
講師：外資系電子機器関連企業 菊池 保夫 氏
【午後】工場見学 半導体製造後工程（組立、テスト）
大分電子工業(株) 三重工場
参加者数： 午前 16社 53名、オンライン受講 7社 35名
午後 16社 34名
【午前】講義
【午後】工場見学
日 時：令和7年6月18日(水) 9:00～17:00
場 所：大分県産業科学技術センター 多目的ホール
(株)ジャパンセミコンダクター
講座内容：
【午前】半導体開発・製造工程概論（ウェハー製造）
講師：外資系電子機器関連企業 菊池 保夫 氏
【午後】工場見学 半導体製造前工程（ウェハー製造処理工程）
(株)ジャパンセミコンダクター
参加者数：午前 20社 60名、オンライン受講 7社 38名
午後 19社 43名
菊池講師 【午前】講義
【午後】工場見学
日 時：令和7年6月12日(木) 9:00～12:00
場 所：大分県産業科学技術センター 多目的ホール
講座内容：半導体の基礎知識（半導体について）
講師：大分大学 理工学部 理工学科 准教授 大森 雅登 氏
参加者数：12社 40名、オンライン受講 10社 48名
大森講師 講義の様子
【日時】 2025年5月8日(木) 15:30～18:30
【場所】 レンブラントホテル大分
【次第】
１．主催者あいさつ 15:30～15:35
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
ネットワーク部会 部会長 安部 征吾
２．講演会 ２階 二豊の間 15:35～17:00
演題：『半導体産業の魅力向上とさらなる発展に向けて』
講師：一般社団法人 電子情報技術産業協会 常務理事 平井 淳生 様
＜講演会参加者数＞ ８０名、３５団体
【安部 部会長 挨拶】 【平井講師】
【 セミナーの様子 】
３．交流会 ２階 久住の間 17:10～18:30
＜交流会参加者＞ ５３名
【丸井副部会長 挨拶】 【池畑副部会長 中締め挨拶】
【交流会の様子】
２０２５年度 第１回理事会を開催し、下記の案件が議決されました。
日時： 2025年5月15日（木）14:00～15:00
場所： 産業科学技術センター多目的ホール
【議事】
[第１号議案]
２０２４年度事業報告について … 承認
[第２号議案]
２０２４年度収支決算報告について … 承認
監事監査報告 … 承認
【その他】
(１)２０２５年度事業計画について
イノベーション部会 部会長 野 尻 裕 明 … 承認
マーケティング部会 部会長 石 井 源 太 … 承認
ネットワーク部会 部会長 安 部 征 吾 … 承認
(２)２０２５年度 総会／フォーラム開催 案内
日時：７月１４日(月) １４：００～１９：３０
場所：レンブラントホテル大分 ２階 二豊の間
【日時】 2025年4月23日(水)
【場所】 ANAクラウンプラザホテル熊本ニュースカイ
【１】フォーラム
①熊本県企業立地課
演題：くまもんのふるさと熊本の立地環境及び企業進出の現状
講演者：山田 純子 課長
②ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング株式会社 熊本テック
演題：ソニーのイメージセンサー事業の展望と地域への期待
講演者：迫田 茂生 テック長
【２】開会挨拶
熊本県工業連合会 会長 田中 稔彦
台湾電子製造設備工業同業公会 理事長 林 士青
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 会長 川越 洋規
九州経済産業局 局長 星野 光明
【３】商談会
目的：台湾企業とのビジネスを創造する
参加：合計55団体、台湾企業18社、日本企業37社（LSIクラスター会員10社、岩手2社、
熊本県工連企業25社）が参加し、計100の商談を行った。
【４】交流会
挨拶：金属 何宛儒 專案經理
大分県 商工観光労働部 部長 利光 秀方
熊本県 商工労働部 部長 上田 哲也
JETRO熊本 所長 水野 桂輔
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 企画委員長 鈴木清己
概要：日台総勢148名が参加し、九州・台湾間の会員企業交流を深めた。
＜フォーラム＞
＜田中会長＞ ＜林理事長＞
＜川越会長＞ ＜星野局長＞ ＜記念撮影＞
＜商談会の様子＞ ＜パンフレット展示＞ ＜ポスター展示＞
＜利光部長＞ ＜鈴木企画委員長＞ ＜交流会の様子＞
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員の皆様へ
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議事務局
例年ご好評いただいております半導体基礎講座につきまして、今年度も参加者募集を行います。
これは半導体に関する基礎知識を習得いただくもので技術関係者ばかりでなく、
事務職や新入社員の社員教育としても最適な内容となっています。
（半導体の基礎知識）座学半日及び、（前工程・後工程）座学＆工場見学の各１日コースの構成です。
受講を希望される場合は、別添募集案内をご確認のうえ申込書を本講座委託先の
株式会社エリアのご担当様までメール送付願います。
ご質問もエリア様へお願いいたします。
〇添付ファイル
令和7年度半導体基礎講座 募集案内
令和7年度半導体基礎講座 申込書
〇受講料：無料
〇申込〆切：6月3日（火）
〇申込先／お問い合わせ先：
株式会社エリア 田辺
tel: 0978-64-2485
e-mail: hr-develop-biz@elia-jp.com
－－－－－
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議事務局
担当：平沖、秋本、楢原
tel: 097-596-7179 e-mail: oita-lsi@columbus.or.jp
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議
会員企業の皆様へ
事務局からお知らせいたします。
今年度も大分県ＬＳＩクラスターニッチトップ・ニューマーケット
推進事業（：補助金）を公募いたします。
応募につきましては最下段の「令和７年度ニッチトップ・ニューマーケット
推進事業費補助金応募要領」を参照され、条件等をご確認ください。
申請につきましては添付「令和７年度大分県ＬＳＩクラスターニッチ
トップ・ニューマーケット推進事業実施要領」の中のニッチトップ・
ニューマーケット推進事業申請書にご記入の上、郵送または
直接ご持参ください。
なお申請前に事務局まで申請内容等につきましてお問合せ願います。
＜補助概要＞
下記2つのメニューから選択できます。いずれも開発要素が
あることが必要です。（単に機器の購入だけでは対象にはなりません）
・ニューマーケット進出事業
補助金上限200万円 補助率 2/3 ・・・ 3件程度
自社の強みを活かし、自社にとっての新分野への事業展開への補助
（既に市場にある製品でも自社にとって初めての開発なら対象）
・ニッチトップ創出事業
補助金上限400万円 補助率 1/2 ・・・ 1件程度
自社の強みを更に高めるための製品競争力強化への補助
（該当市場でトップを目指すための開発が対象）
※補助金上限に達しない事業も応募可能です。（事務局にお問合せ）
＜募集期間＞ ：令和7年4月14日（月）～5月16日（金）（必着）
＜問い合わせ等＞
大分県ＬＳＩクラスター形成推進会議 TEL/FAX：097-596-7179
事務局 平沖、秋本、楢原
公募案内（ PDF ） 応募要領（PDF） 実施要領・申請様式（WORD） 申請書記載例（PDF）
